该设备为方型室蒸镀设备，可满足用户实现单质膜，多层膜及镀制复合膜的工艺要求。蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜，适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足院校的教学与科研

该设备为方型室蒸镀设备，可满足用户实现单质膜，多层膜及镀制复合膜的工艺要求。蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜，适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足院校的教学与科研

　　该设备是一台真空柔性衬底薄膜沉积设备，主要在柔性薄膜基底上沉积光电薄膜。工作条件：供电：～380V三相五线制供电系统，设备总功率约50kVA，占地面积6000×3000㎜，冷却水循环量5M3/H，工作环境温度10℃～40℃，冷却水温度15℃～25℃，极限真空：7×10-5Pa，最大有效衬底宽度220㎜。全不锈钢结构。

本真空退火炉系列产品采用预抽真空气体保护方式工作，操作时先将炉内抽至一定真空度后炉内充入高纯氮气体进行保护加热，从而达到少无氧化加热、无脱碳光亮的目的。由于搅拌风机的使用，该炉具有较高的炉温均匀性。

本真空退火炉系列产品采用预抽真空气体保护方式工作，操作时先将炉内抽至一定真空度后炉内充入高纯氮气体进行保护加热，从而达到少无氧化加热、无脱碳光亮的目的。由于搅拌风机的使用，该炉具有较高的炉温均匀性。

本真空退火炉系列产品采用预抽真空气体保护方式工作，操作时先将炉内抽至一定真空度后炉内充入高纯氮气体进行保护加热，从而达到少无氧化加热、无脱碳光亮的目的。由于搅拌风机的使用，该炉具有较高的炉温均匀性。

本设备广泛应用于硬质合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高温、高真空条件下进行热压烧结处理，也可在充气保护情况下热压成形烧结。

真空热压炉特点：本真空炉为立式结构，采用双层水夹层结构，内、外壁及法兰均为304不锈钢。真空系统：由油扩散泵、罗茨泵、机械泵配电磁压差阀（防止因突然停电、机械泵油倒灌）充气阀、放气阀、真空蝶阀、真空压力表（±Pa）波纹管、真空管路和支架等组成。

溅射设备主体均为优质不锈钢制造，耐腐蚀、抗污染、漏率小;设备电控部分采用了先进的检测和控制系统，配置了较先进的PLC触摸编程控制，为用户做多层膜提供了良好的设备功能保证，且保证了设备各功能的稳定和方便操作。性能稳定、可靠；设备布局合理，提高了利用率和稳定性，减少了对环境的干扰；控制面板的设计考虑了美观和适用的结合，使面板操作指示明确，观察舒适、操作方便。

极限真空：2×10-6Pa。可镀最大直径4英寸基片一片。恢复真空：从大气到7×10-4Pa ≦30min（新平台充干燥氮气）。平台总体漏率：关机12小时真空度≤1Pa。分子束外延设备性能参数：