本套高真空蒸发镀膜系统具有计算机可编程控制多层镀膜系统，可实现程序自动控制的多层薄膜的蒸镀。真空腔体为Ф500×600（mm）不锈钢半圆柱形,极限真空度≤5.0×10-7Pa。蒸发室U型前快开门密封方式，外表采用喷丸和电解抛光工艺处理，真空室内部全表面有不锈钢防污板。

　　该设备为方型室蒸镀设备，可满足用户实现单质膜，多层膜及镀制复合膜的工艺要求。蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜，适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足院校的教学与科研

该设备为方型室蒸镀设备，可满足用户实现单质膜，多层膜及镀制复合膜的工艺要求。蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜，适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足院校的教学与科研