卷绕镀膜设备

真空柔性衬底薄膜沉积设备

  该设备是一台真空柔性衬底薄膜沉积设备,主要在柔性薄膜基底上沉积光电薄膜。工作条件:供电:~380V三相五线制供电系统,设备总功率约50kVA,占地面积6000×3000㎜,冷却水循环量5M3/H,工作环境温度10℃~40℃,冷却水温度15℃~25℃,极限真空:7×10-5Pa,最大有效衬底宽度220㎜。全不锈钢结构。

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