高真空蒸发镀膜系统
1、本套高真空蒸发镀膜系统具有计算机可编程控制多层镀膜系统，可实现程序自动控制的多层薄膜的蒸镀。
2、真空腔体为Ф500×600（mm）不锈钢半圆柱形,极限真空度≤5.0×10-7Pa。蒸发室U型前快开门密封方式，外表采用喷丸和电解抛光工艺处理，真空室内部全表面有不锈钢防污板。
3、前面装有DN100挡板观察窗,一个四芯引线，CF35预抽法兰，二个进气阀法兰等。下面装有1套6源1500℃蒸发源系统，并配有蒸发源口的旋转挡板。
4、蒸发源与基片距离调节范围150～450mm，镀膜速率和时间可控。
5、 可放置23片Ф50.8mm样片，也可更换6片Ф100样片或3片Ф150样片，每种配一套厚度0.5mm材质304的样片。每种样品都具有防止掉落的快速锁紧，并且方便快速取出。样品台可旋转，自转速度0～50转/分，膜厚均匀性≤±3%。
6、基片加热温度范围室温～最高1700℃，由热电偶闭环反馈控制, 导电PID智能控温，控温精度±0.5℃。
7、蒸发镀膜工艺室极限真空度≤5.0×10-7Pa(经烘烤除气后，24小时内)；真空室漏率7×10-11Pa.L/S； 蒸发镀膜工作真空1.0×10-2Pa -1.0×10-4Pa，由大气状态下抽到在30分钟内；工作真空状态下充入氮气，下次再抽到6.0×10-4Pa需小于10分钟；系统停泵关机12小时后真空室真空度≤5Pa。
8、高真空蒸发镀膜系统现货价：90万元人民币。
