MJCK-500高真空磁控溅射镀膜系统性能指标
1.高真空磁控溅射镀膜系统：厂商沈阳美济真空科技有限公司。（品牌：美济真空）型号MJCK-500，产品实用可靠，自动化程度高，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，热处理部分也在原来的设备基础上全面改进升级了，完全满足国内高等院校和科研院所的需要。
2.设备技术要求：
系统主要由四靶溅射室、进样室、2英寸非磁溅射靶和2英寸磁性靶，靶头倾角可调并可换（电动升降），并配有可电脑编程控制电动挡板，直流电源、射频电源、样品库、清洗靶、样品加热冷却转台、电动磁力送样机构。
2.1、 溅射室
2.1.1、为约Ф500×450（mm）不锈钢圆柱形腔体。极限真空可达5×10-5Pa,溅射室上盖密封方式，外表采用喷丸和电解抛光工艺处理，上盖电动提升，真空室内设有不锈钢防污板。
2.1.2、下面装有4个磁控靶(RF兼容，其中2个磁性靶，靶挡板可电脑编程控制开关状态和时间)；磁控靶有水冷系统冷却，使永磁铁处于常温状态;所镀膜层控精度可达0.01nm 。
2.1.3、真空室可内烘烤150～200℃。
2.2、样品台
2.2.1、可放置1片Ф50mm样片拖。样片架可公转、自转和翻转三维度旋转，自转速度0～50转/分，靶基距双向调节30-180mm。
2.2.2、基片加热最高温度1700℃，控温精度±0.5○C。由铂铑偶闭环反馈控制；程序控温，升温速率可控范围0.1-5℃/s，降温速率可控范围（5-50℃/s），恒温时间可控（几分钟到几十小时）。基片可在同位降温热处理。原位热处理不会互相干扰。具有电动控制基片挡板。
2.3、进样室
2.3.1、为约Ф450×450（mm）不锈钢水平圆柱形腔体，外表采用喷丸和电解抛光工艺处理；
2.3.2、进样室下方配有离子清洗。
2.4、样品库
2.4.1、样品库在进样室的上方安装，库内可放6块Ф50样品；
2.4.2、样品由进样室前面带有玻璃观察窗的门中放到样品库中，由进样室样品送样机构将其传递到溅射室中。当镀膜完成后，再由磁力送样机构将其从溅射室中取下，自动送回到样品库中。
2.5、MJCK-500高真空磁控溅射镀膜系统现货价：90万元人民币。
